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開云app 華虹宏力申請深溝槽隔離結構及其制作方法專利,避免硅柱倒掉或側傾
2026-01-23國家知識產權局信息顯示,上海華虹宏力半導體制造有限公司申請一項名為“深溝槽隔離結構及其制作方法”的專利,公開號CN121335519A,申請日期為2025年9月
















